据悉中微半导体设备（上海）股份有限公司制造的5nm刻蚀机已完成量产准备，下半年就将交付给台积电投入使用，这是国产芯片制造产业链的又一个重大突破。

　　

由于众所周知的原因，当下芯片制造方面对光刻机的关注度最高，但是由于种种原因，中国在获取先进光刻机方面面临困难，中国的芯片制造产业链并未因此而气馁，反而通过它们的共同努力，在现有基础上进行点突破。

　　

刻蚀机正是中国在芯片制造产业链中进展最快的环节，其他环节如今才刚进展到14nm，光刻机更是还在攻坚28nm，而刻蚀机已完成7nm工艺，如今再进一步到5nm工艺，刻蚀机可谓是中国芯片制造产业链最成功的技术创新。

　　

其实刻蚀机与光刻机都是芯片制造中最重要的两大环节之一，在芯片制造当中，光刻机将芯片线路刻画出来，刻蚀机则将光刻机刻画的线路图以物理或化学方法去掉硅片的多余部分，从而将晶片的线路凸显出来。

　　

据业界人士指出芯片制造中的光刻机成本占近三成，而刻蚀机的成本占20％－27％左右，可以说刻蚀机是仅次于光刻机的重要芯片制造设备，由此可见中国取得刻蚀机的突破已是芯片制造的巨大进步。

　　

中国芯片制造各个行业如今都在极力依靠现有的基础发展芯片制造，在芯片产能方面，当前国产芯片制造主要基于14nm及更成熟工艺满足国内的需求，业界人士认为14nm就能满足国内七成的需求。

　　

由于当下全球芯片市场进行下行阶段，企业对于成本的控制更加严格，以外地催热28nm及更落后工艺，因为这些工艺更成熟、成本更低、可靠性更高，由此中国三大芯片代工厂反而成为受益者，2021年中国三大芯片代工厂的营收增速居于第一，超过了台积电。

　　

眼见着成熟工艺得到芯片行业的青睐，拥有5nm等先进工艺制程的台积电如今又反过来扩张28nm工艺产能，试图与中国大陆的三大芯片制造企业竞争。但是对于芯片行业来说，先进工艺毕竟是未来，为此中国的芯片产业链仍然需要加快先进工艺的发展。

　　

中国在刻蚀机方面所取得的进展，证明了芯片制造设备其实并非不可突破的技术，刻蚀机的快进步将促使中国芯片产业链加速技术研发，可以预期中国的芯片制造产业链迟早能打破当下的桎梏，实现完全自主研发。

　　

面对着中国在芯片制造产业链方面的突破，拥有先进光刻机的ASML已经有点着急了，ASML的高管早就表示限制对中国出货光刻机无助于全球芯片供应链的良性发展，中国迟早能打破技术局限，而中国在刻蚀机方面的突破无疑印证了ASML的预测，而ASML也开始加大对中国出货光刻机的力度，希望在这个市场获得更多的利益。

　　微软原文标题！中国芯片制造产业链的重大突破，5nm设备即将发给台积电

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